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PCB 電気めっきプロセスの知識のまとめ
11Jan
Jeff コメント件

PCB 電気めっきプロセスの知識のまとめ

1、 PCB 電気めっきプロセスの分類:

アシッド ブライト銅電気メッキ ニッケル/金電気メッキ スズ

2、プロセスの流れ:

酸洗 → 全面銅めっき → パターン転写 → 酸脱脂 → 二次向流洗浄 → マイクロエッチング → 二次 → 酸洗 → スズめっき → 二次向流洗浄

向流洗浄→酸洗→パターン銅めっき→二次向流洗浄

→ニッケルメッキ→水洗二次水洗→クエン酸浸漬→金メッキ→回収→2~3段純水洗浄→乾燥

3、プロセスの説明:

(1)酸洗

①機能と目的:

PCB ボード上の酸化物を除去し、ボードを活性化します。 一般的な濃度は 5% で、そのうちのいくつかは約 10% に保たれています。これは主に、水の導入によってタンク溶液の硫酸含有量が不安定になるのを防ぐためです。

pcb board

②ボード表面の酸化を防ぐため、酸洗時間は長すぎないようにしてください。 一定期間使用した後、酸溶液が濁ったり、銅含有量が高すぎる場合は、電気メッキ銅シリンダーとプレートの表面への汚染を防ぐために、時間内に交換する必要があります。

③ C. ここでは P グレードの硫酸を使用します。

(2)全板銅電気めっき:一次銅、板電気めっき、パネルめっきとも呼ばれます ①機能と目的:

析出したばかりの薄い化成銅を保護し、酸化後の酸で化成銅が浸食されるのを防ぎ、電気めっきである程度追加する

②プレート全体の銅電気メッキの関連プロセスパラメーター:浴液の主成分は硫酸銅と硫酸であり、高酸と低銅の式を採用して、プレート表面の厚さ分布の均一性を確保します 深い穴および小さい穴のための電気めっきおよび深いめっき容量; 硫酸の含有量は主に180g / Lで、そのほとんどは240g / Lに達します。 硫酸銅の含有量は一般的に約75g/Lです。 さらに、少量の塩化物イオンを浴液に添加し、補助光沢剤および銅研磨剤として使用して、光沢効果を一緒に発揮させることができます。 銅磨き剤の添加量またはシリンダー開量は、一般的に3~5ml/Lです。 銅研磨の追加は、一般に、キロアンペアアワーの方法または実際の生産基板効果に従って追加されます。 フルプレート電気メッキの電流は、一般に、2 A/平方デシメートルにプレート上の電気メッキ面積を掛けて計算されます。 全板電気めっきの場合、板の長さ dm × 基板の幅 dm × 2 × 2A/ DM2; 銅シリンダーの温度は室温に維持されます。 通常、温度は32°Cを超えず、ほとんどの温度は22°Cに制御されます。したがって、夏は高温になるため、銅シリンダーに冷却温度制御システムを取り付けることをお勧めします。

③工程整備:

毎日のキロアンペアアワーと 100-150ml/KAH に応じて銅磨き剤を補充します。 フィルターポンプが正常に動作しているかどうか、空気漏れがないかどうかを確認してください。 2 ~ 3 時間ごとに、きれいな湿った雑巾で陰極導電棒を拭きます。 銅シリンダー中の硫酸銅(週1回)、硫酸(週1回)、塩化物イオン(週2回)の含有量を毎週定期的に分析し、ホールセルテストを通じて研磨剤の含有量を調整し、関連する原材料をタイムリーに補充します ; 毎週、タンクの両端にある陽極導電棒と電気接続部を掃除し、時間内にチタンバスケットに陽極銅球を補充し、0.2〜0の低電流を使用します。 陽極のチタンかごバッグが毎月破損しているかどうかを確認し、破損したものを時間内に交換します。 アノードチタンバスケットの底にアノード泥があるかどうかを確認し、あれば時間内に掃除してください。 カーボンコアは6〜8時間の連続ろ過に使用され、低電流電解は不純物除去に使用されます。 半年程度ごとに、タンク液の汚染状況に応じて、大処理(活性炭粉)の要否を判断してください。 フィルター ポンプのフィルター エレメントは 2 週間ごとに交換してください。]

④大加工プログラム:A陽極を取り出し、陽極を注ぎ、陽極表面の陽極膜をきれいにしてから、銅陽極を包装するためのバレルに入れます。 銅のコーナー面をマイクロエッチャントで均一なピンク色に荒らします。 洗浄・フラッシング後、チタンカゴに入れ、待機用酸タンクに入れる B 陽極チタンカゴと陽極バッグを10%アルカリ溶液に6~8時間浸漬し、洗浄・すすぎ乾燥後、浸漬する 5%希硫酸で洗い、すすぎ乾かし、待機用とする。 C. タンク溶液を予備タンクに移し、30%過酸化水素水を 1 ~ 3 ml/L 加えて加熱を開始し、温度が約 65 ℃ になったら空気攪拌を開始し、断熱空気で 2 ~ 4 時間攪拌する。 D. 空気攪拌を停止し、活性炭粉末を 3 ~ 5 g/l で浴溶液にゆっくりと溶解します。 溶液が完全に溶解したら、空気攪拌を開始し、温度を 2 ~ 4 時間維持します。 E. 空気攪拌を停止し、加熱して、活性炭粉末をゆっくりとタンクの底に沈ませます。 F. 温度が約 40 ℃ に下がったら、10um PP フィルター エレメントとろ過助剤粉末を使用して、タンクの液体をきれいな作業タンクにろ過し、空気攪拌を開始し、陽極を入れ、電解プレートに吊るし、プレスします。 0. 2-0。 5ASD 電流密度低電流電解 6-8 時間、G 化学分析後、タンク内の硫酸、硫酸銅、塩化物イオンの含有量を通常の動作範囲に調整します。 ホールセル試験結果による補足研磨; H.電解板の色が均一になったら電解を止め、1-1を押します。 5ASDの電流密度は、電解グリーンフィルムで1〜2時間処理され、均一で緻密で良好な接着性を持つ黒リンフィルムの層がアノード上に形成されます。 I.試しめっきOK;

⑤陽極銅球には0.3—0.6%のリンが含まれており、主な目的は陽極溶解効率を低下させ、銅粉の生産を減らすことです。

⑥硫酸銅や硫酸を大量に添加するなど、薬品を補充する場合。 添加後、低電流電解を行うものとする。 硫酸を添加する際は安全に注意する。 硫酸の添加量が多い場合(10リットル以上)は、数回に分けてゆっくりと添加する。 そうしないと、浴液の温度が高すぎて、研磨剤の分解が加速され、浴液が汚染されます。

⑦ 塩化物イオンの含有量は極めて少なく(30~90ppm)、メスシリンダーや計量カップで正確に量ってから添加するため、塩化物イオンの添加には特に注意が必要です。 塩酸1mlには約385ppmの塩化物イオンが含まれており、

⑧薬剤添加計算式:

硫酸銅(kg)=(75-X)×タンク容量(L)/1000

硫酸(単位:リットル)=(10%-X)g/L×タンク容量(L)

または (リットル)=(180-X) g/L × タンク容量 (L)/1840

塩酸(ml)=(60-X)ppm×タンク容量(L)/385

(3)酸脱脂

①目的と機能

② ここでは酸脱脂剤を使用します。 アルカリ性脱脂剤を使用しないのはなぜですか。アルカリ性脱脂剤は、酸性脱脂剤よりも脱脂効果が優れていますか? グラフィックインクは耐アルカリ性がないため、グラフィック回路を損傷するため、グラフィックは電気メッキの前に酸脱脂剤のみを使用できます。

③製造時は脱脂剤の濃度と時間を管理するだけでよい。 脱脂剤の濃度は約10%、時間は6分保証です。 もう少し長くしても悪影響はありません。 タンク液の使用・交換も作動液15m2/Lを基準とし、補充は100m20.5~0.8Lを基準とする。

(4)マイクロエッチング:

①目的と機能:回路の銅表面をきれいにして粗くし、パターン電気めっき銅と一次銅との間の結合力を確保します

② マイクロエッチャントには過硫酸ナトリウムが主に使用されます。 粗化率が安定して均一で、水洗性も良好です。 過硫酸ナトリウムの濃度は通常約60g/L、時間は約20秒に管理されています。 薬の投与量は100平方メートルあたり3〜4kgです。 銅含有量は 20g/L 未満に管理されなければなりません。 その他のメンテナンスやシリンダー交換は銅マイクロエッチングと同じです。

(5)基板酸洗

①機能と目的:

表面の酸化物を除去し、表面を活性化します。 一般的な濃度は 5% で、中には 10% 程度に保たれているものもあります。

②ボード表面の酸化を防ぐため、酸洗時間は長すぎないようにしてください。 一定期間使用した後、酸溶液が濁ったり、銅含有量が高すぎる場合は、電気メッキ銅シリンダーとプレートの表面への汚染を防ぐために、時間内に交換する必要があります。

③ C. ここでは P グレードの硫酸を使用します。

(6)PCBグラフィック銅メッキ:二次銅、回路銅メッキとも呼ばれます

①目的と機能:各線の定格電流負荷を満たすために、各線と穴の銅は一定の厚さに達する必要があります。 ライン銅メッキの目的は、穴の銅とラインの銅を時間の経過とともに特定の厚さに厚くすることです。

②その他は全面メッキと同じ

(7)PCB電解スズ化

①目的と機能:回路のエッチングを保護するための金属防食層として、主に純錫が使用されます。

②浴液は主に硫酸第一スズ、硫酸、添加剤で構成されています。 硫酸第一スズの含有量は約 35g/L に制御され、硫酸含有量は約 10% に制御されます。 スズメッキ添加剤は、一般に、キロアンペア時間の方法または実際の生産ボード効果に従って追加されます。 スズ電気めっきの電流は、一般に、1.5 A/平方デシメートル×プレートの電気めっき面積として計算されます。 ブリキのシリンダーの温度は室温に保たれます。 一般的に気温は30度を超えず、ほとんどが22度で管理されています。 そのため、夏季は温度が高いため、ブリキシリンダーに冷却温度制御システムを取り付けることをお勧めします。

③工程整備:

毎日キロアンペアアワーに応じてスズめっき添加剤を補充します。 フィルターポンプが正常に動作しているかどうか、空気漏れがないかどうかを確認してください。 2 ~ 3 時間ごとに、きれいな湿った雑巾で陰極導電棒を拭きます。 毎週定期的にスズ シリンダー内の硫酸第一スズ (週に 1 回) と硫酸 (週に 1 回) を分析し、ホール セル テストを通じてスズめっき添加剤の含有量を調整し、関連する原材料をタイムリーに補充します。 毎週、タンクの両端にあるアノード導電ロッドと電気ジョイントを清掃してください。 毎週低電流 0 を使用します。 2~0。 5ASD 電気分解で 6~8 時間。 陽極バッグが毎月損傷しているかどうかを確認し、損傷したバッグを時間内に交換します。 陽極バッグの底に陽極泥があるかどうかを確認し、あれば時間内に掃除してください。 毎月 6 ~ 8 時間の炭素コアによる連続ろ過と、不純物除去のための低電流電解。 半年程度ごとに、タンク液の汚染状況に応じて、大処理(活性炭粉)の要否を判断してください。 フィルター ポンプのフィルター エレメントは 2 週間ごとに交換してください。

⑨大加工プログラム:A 陽極を取り出し、陽極袋を降ろし、銅ブラシで陽極表面をきれいにし、水洗いし、陽極袋に入れ、待機用の酸タンクに入れる B 陽極を浸す 袋を 10% アルカリ溶液に 6 ~ 8 時間浸し、洗浄して乾かし、5% 希硫酸に浸し、洗浄して乾かし、待機状態に使用します。 C. タンク溶液を予備タンクに移し、活性炭粉末をタンク溶液に 3 ~ 5 g/l でゆっくりと溶解します。 溶液が完全に溶解したら、4~6時間吸着させ、タンク溶液を10um PPフィルターエレメントと濾過助剤粉末で濾過し、洗浄した作業タンクに入れ、陽極を置き、電解プレートに吊るし、0を押します。 2-0。 5ASD 電流密度低電流電解 6 ~ 8 時間、D 化学分析後、タンク内の硫酸と硫酸第一スズの含有量を通常の動作範囲に調整します。 ホールセル試験の結果に応じて、スズめっき添加剤を追加します。 E.電解板の色が均一になったら電解を停止します。 F.試しめっきOK;

④ 硫酸第一スズ、硫酸などの薬品を補充するとき、添加量が多いとき。 添加後、低電流電解を行うものとする。 硫酸を添加する際は安全に注意する。 硫酸の添加量が多い場合(10リットル以上)は、数回に分けてゆっくりと添加する。 そうしないと、浴液の温度が高すぎて、酸化第一スズが酸化され、浴液の老化が加速します。

⑤薬剤添加計算式:

硫酸第一スズ(単位:kg)=(40-X)×タンク容量(L)/1000

硫酸(単位:リットル)=(10%-X)g/L×タンク容量(L)

または (リットル)=(180-X) g/L × タンク容量 (L)/1840

(9)PCBニッケルメッキ

①目的と機能:ニッケルメッキ層は、主に銅層と金層の間のバリア層として使用され、PCBボードのはんだ付け性と耐用年数に影響を与える金と銅の相互拡散を防ぎます。 同時に、ニッケル層の下塗りは金層の機械的強度も大幅に高めます。

②板全体の銅電気メッキの関連プロセスパラメーター:ニッケルメッキ添加剤は、通常、キロアンペア時間の方法に従って、またはプレートの実際の生産効果に従って、約200ml / KAHの添加量で追加されます。 パターン ニッケル電気めっきの電流は、一般に、2 A/平方デシメートルにプレート上の電気めっき面積を掛けて計算されます。 ニッケルシリンダーの温度は40~55℃に保たれており、一般的な温度は約50℃です。 したがって、ニッケルシリンダーには加熱および温度制御システムを装備する必要があります。

③工程整備:

毎日キロアンペアアワーに応じてニッケルめっき添加剤を補充します。 フィルターポンプが正常に動作しているかどうか、空気漏れがないかどうかを確認してください。 2 ~ 3 時間ごとに、きれいな湿った雑巾で陰極導電棒を拭きます。 銅シリンダー中の硫酸ニッケル(スルファミン酸ニッケル)、塩化ニッケル(週1回)、ホウ酸(週1回)の含有量を毎週定期的に分析し、ホールセル試験によりニッケルメッキ添加剤の含有量を調整し、 関連する原材料は適時に補充されなければならない。 毎週、タンクの両端にある陽極導電棒と電気接続部を清掃し、時間内にチタン バスケットの陽極ニッケル角を補い、0.2 ~ 0 の低電流を使用します。 陽極のチタンかごバッグが毎月破損しているかどうかを確認し、破損したものを時間内に交換します。 アノードチタンバスケットの底にアノード泥があるかどうかを確認し、あれば時間内に掃除してください。 カーボンコアは6〜8時間の連続ろ過に使用され、低電流電解は不純物除去に使用されます。 半年程度ごとにPCBタンク液の汚染状況に応じて大処理(活性炭粉)の要否を判断。 フィルター ポンプのフィルター エレメントは 2 週間ごとに交換してください。

④ 大規模な処理プログラム: A 陽極を取り出し、陽極を注ぎ、陽極をきれいにしてから、ニッケル コーナー パッケージ用のバレルに入れます。 ニッケルコーナー面をマイクロエッチャントで均一なピンク色に粗面化。 洗浄・フラッシング後、チタンカゴに入れ、待機用酸タンクに入れる B 陽極チタンカゴと陽極バッグを10%アルカリ溶液に6~8時間浸漬し、洗浄・すすぎ乾燥後、浸漬する 5%希硫酸で洗い、すすぎ乾かし、待機用とする。 C. タンク溶液を予備タンクに移し、30%過酸化水素水を 1 ~ 3 ml/L 加えて加熱を開始し、温度が約 65 ℃ になったら空気攪拌を開始し、断熱空気で 2 ~ 4 時間攪拌する。 D. 空気攪拌を停止し、活性炭粉末を 3 ~ 5 g/l で浴溶液にゆっくりと溶解します。 溶液が完全に溶解したら、空気攪拌を開始し、温度を 2 ~ 4 時間維持します。 E. 空気攪拌を停止し、加熱して、活性炭粉末をゆっくりとタンクの底に沈ませます。 F. 温度が約 40 ℃ に下がったら、10um PP フィルター エレメントとろ過助剤粉末を使用して、タンクの液体をきれいな作業タンクにろ過し、空気攪拌を開始し、陽極を入れ、電解プレートに吊るし、プレスします。 0. 2-0。 5ASD 電流密度低電流電解 6-8 時間、G 化学分析後、タンク内の硫酸ニッケルまたはスルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、およびホウ酸の含有量を通常の動作範囲に調整します。 ホールセル試験結果に応じてニッケルめっき添加剤を補充します。 H.電解板の色が均一になったら電解を止め、1-1を押します。 5ASD の電流密度は、アノードを活性化するために 10 ~ 20 分間電解処理されます。 I.試しめっきOK;

⑤医薬品を補充する場合、硫酸ニッケルやスルファミン酸ニッケルなどの投与量が多い場合、および塩化ニッケルを追加する場合は、低電流で電解する必要があります。 ホウ酸を加えるときは、ホウ酸をタンクに直接加えるのではなく、加えた量のホウ酸をきれいな陽極バッグに入れ、ニッケル シリンダーに吊るします。

⑥ ニッケルめっき後、洗浄用の再生水を1回追加し、加熱によりニッケルボンベから揮発した液面を補うために純水でボンベを開けることをお勧めします。 リサイクルされた水は洗浄された後、二次向流洗浄に接続されます。

⑦薬剤添加計算式:

硫酸ニッケル(単位:kg)=(280-X)×タンク容量(L)/1000

塩化ニッケル(単位:kg)=(45-X)×タンク容量(L)/1000

ホウ酸(kg)=(45-X)×タンク容量(L)/1000

(10)回路基板の電気メッキ:硬質金(金合金)電気メッキと水金(純金)電気メッキに分けられます。 硬質金メッキ浴の組成は、硬質金浴にニッケル、コバルト、鉄などの微量元素があることを除いて、基本的に軟質金浴と同じです。

①目的と機能:金は貴金属として、溶接性、耐酸化性、耐食性、接触抵抗が低く、合金の耐摩耗性などに優れています。

②現在、回路基板の電気メッキ金浴は主にクエン酸金浴であり、メンテナンスが簡単で操作が簡単なため広く使用されています。

③ 水中の金含有量は約 1g/L に管理され、PH 値は 4 である。約 5 度、温度 35 度、比重 14 ボーメ度。

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